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佳能:将继续扩充半导体光刻机产品阵容

作者:shuaishuai  时间:2020-01-17 22:07
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  佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机「PPC-1」,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。随着数字技术的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断升级。

  佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术,佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后,为了进一步扩大业务范围,佳能开始了半导体光刻机的研发,并于1970年成功发售日本首台半导体光刻机「PPC-1」,正式进入半导体光刻机领域。

  佳能于1975年发售的「FPA-141F」光刻机在世界上首次实现了1微米以下的曝光,此项技术作为"重要科学技术历史资料(未来技术遗产)",于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。

  目前佳能的光刻机阵容包括i线光刻机和KrF光刻机产品线,并根据时代的需求在不断扩大应用范围。佳能表示,今后,佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能,以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外,在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求,佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。

  据悉,自1986年起,佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域,开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后佳能也将继续致力于提高清晰度和生产效率,以满足液晶和OLED显示设备制造的需求。


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